年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99.996%)

三氟化氮（Nitrogen Trifluoride），化学式NF3，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼔体的具有⼔柛的具有⼔柛的天。
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半导体芯⽚是平、平显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽓体咔清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼤量热来定应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料，并且在⽕箭发射中作为氧化剂和推进剤住。

Nitrogen trifluoride, tātai matū NF3, he matū whakahāora kaha. I te mea he hau motuhake mo te ahumahi, he maha nga momo tono.
I roto i te ahumahi microelectronics, ko te hauota trifluoride he hau etching plasma pai; I roto i te maramara semiconductor, te whakaaturanga papanga papatahi, te muka whatu, nga pūtau photovoltaic me etahi atu mara whakangao, hauota trifluoride te nuinga o te whakamahia hei hau etching plasma me te kaihoko horoi rua tauhohenga.
Ka taea hoki te whakamahi i roto i nga laser matū kaha nui ki te whakatutuki i tana tono ma te urupare ki te hauwai ki te whakaputa i te nui o te wera i te wa tonu. Ka whakamahia ano hoki te hauota trifluoride hei wahie kaha-kaha, hei oxidizer me te whakangao i roto i nga whakarewatanga takirirangi.